1-(三环[3.3.1.13,7]癸-1-基甲基)2,2-二氟-2-磺基乙酸酯三苯基锍盐(1:1) CAS#: 1022939-88-3; ChemWhat 代号:1491748

三苯基锍盐与 1-(三环)

识别物理数据光谱
合成路线(ROS)安全与危害其他数据

识别

产品名称三苯基锍盐与 1-(三环[3.3.1.13,7]癸-1-基甲基) 2,2-二氟-2-磺基乙酸酯 (1:1)
IUPAC名称2-(1-金刚烷基甲氧基)-1,1-二氟-2-氧代乙磺酸盐;三苯硫鎓
分子结构1-(三环[3.3.1.13,7]癸-1-基甲基)2,2-二氟-2-磺基乙酸酯三苯基锍盐的结构 (11) CAS 1022939-88-3
CAS注册号 1022939-88-3
EINECS号码数据不详
MDL号码数据不详
Beilstein登记号码数据不详
同义词三苯基锍 1-金刚烷基甲氧羰基二氟甲磺酸三苯基锍 1-金刚烷基甲氧羰基二氟甲磺酸三苯基锍 (金刚烷-1-基甲基)氧羰基二氟甲磺酸三苯基锍 (金刚烷-1-基甲基)氧羰基二氟甲磺酸
分子式C31H32F2O5S2
分子量586.7
INCHIInChI=1S/C18H15S.C13H18F2O5S/c1-4-10-16(11-5-1)19(17-12-6-2-7-13-17)18-14-8-3-9-15-18;14-13(15,21(17,18)19)11(16)20-7-12-4-8-1-9(5-12)3-10(2-8)6-12/h1-15H;8-10H,1-7H2,(H,17,18,19)/q+1;/p-1
InChI键OPUSNKQMMLRYMS-UHFFFAOYSA-M
典范 SMILESC1C2CC3CC1CC(C2)(C3)COC(=O)C(F)(F)S(=O)(=O)[O-].C1=CC=C(C=C1)[S+](C2=CC=CC=C2)C3=CC=CC=C3
专利信息
专利ID标题发布日期
US2016 / 168115盐、酸发生剂、抗蚀剂组合物及抗蚀图案的制备方法2016
 JP2018 / 145179盐、酸发生剂、抗蚀剂组合物及抗蚀图案的制备方法2018

物理数据

外观白色至类白色粉末
可溶性数据不详
闪点数据不详
折射率数据不详
灵敏度数据不详

光谱

核(核磁共振光谱学)溶剂(核磁共振波谱法)原始文本(核磁共振光谱学)
1H氯仿 - d11<sup>1</sup>H NMR(测量溶剂:氘代氯仿,参考物质:四甲基硅烷);δ=7.72 (m, 15H; TPS), 3.85 (s, 2H; CH<sub>3</sub>)2), 1.92 (m, 3H; 1-Ad), 1.62 (m, 12H; 1-Ad)。
1H氯仿 - d119<sup>19</sup>F NMR(测量溶剂:氘代氯仿,参考物质:三氯氟甲烷);δ=-110.0 (s, 2F; CF<sub>3</sub>)2).
描述(质谱)评论(质谱)高峰
ESI(电喷雾电离),LCMS(液相色谱质谱)分子峰
ESI(电喷雾电离)分子峰263.2 m / z
LCMS(液相色谱质谱),ESI(电喷雾电离)
LCMS(液相色谱质谱),ESI(电喷雾电离)
描述(UV / VIS光谱)
光谱

合成路线(ROS)

1-(三环[3.3.1.13,7]癸-1-基甲基)2,2-二氟-2-磺基乙酸酯(11) CAS# 1022939-88-3 的三苯基锍盐的合成路线
1-(三环[3.3.1.13,7]癸-1-基甲基)2,2-二氟-2-磺基乙酸酯(11) CAS# 1022939-88-3 的三苯基锍盐的合成路线
医美问题产量
在80℃的水中;100%
在甲醇中;在水中浸泡 15 小时;

安全与危害

GHS危害声明没有分类

其他数据

交通NONH适用于所有运输方式
在室温和远离光线下
HS编码数据不详
存放在室温和远离光线下
保质期2 年
市场价格美元
药物相似性
Lipinski规则组件
分子量586.721
日志8.553
HBA5
HBD0
匹配Lipinski规则2
Veber规则组件
极性表面积(PSA)91.88
可旋转债券(RotB)8
匹配Veber规则2
使用模式
核心功能:光酸发生器(PAG)
它吸收光并发生光解作用
产生强酸(二氟甲磺酸)
生成的酸可以催化化学放大反应或引发后续的阳离子聚合反应。它是光刻胶和阳离子光聚合物固化体系中的关键功能添加剂。
二、主要应用领域
1.半导体光刻胶(化学放大光刻胶,CARs)
适用于:
i线、KrF和ArF光刻系统
高分辨率化学放大光刻胶
主要功能:
暴露于酸中会产生酸
催化脱保护反应
增强曝光效果 → 提高分辨率、灵敏度和关键尺寸/线边缘粗糙度 (CD/LER) 控制
金刚烷基结构的优点:
提供高热稳定性
减少酸扩散 → 提高分辨率和线边缘粗糙度
提高光刻胶的光学性能和配方稳定性
阳离子光固化系统
用于环氧树脂和乙烯醚材料的紫外光诱导阳离子固化
紫外线照射→生成酸→引发阳离子开环聚合或交联
应用范围包括:
紫外线固化涂料和油墨
电子封装材料
光刻图案化绝缘层(例如,PSPI、PI)

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