1-(三环[3.3.1.13,7]癸-1-基甲基)2,2-二氟-2-磺基乙酸酯三苯基锍盐(1:1) CAS#: 1022939-88-3; ChemWhat 代号:1491748
三苯基锍盐与 1-(三环)
识别
| 产品名称 | 三苯基锍盐与 1-(三环[3.3.1.13,7]癸-1-基甲基) 2,2-二氟-2-磺基乙酸酯 (1:1) |
| IUPAC名称 | 2-(1-金刚烷基甲氧基)-1,1-二氟-2-氧代乙磺酸盐;三苯硫鎓 |
| 分子结构 | ![]() |
| CAS注册号 | 1022939-88-3 |
| EINECS号码 | 数据不详 |
| MDL号码 | 数据不详 |
| Beilstein登记号码 | 数据不详 |
| 同义词 | 三苯基锍 1-金刚烷基甲氧羰基二氟甲磺酸三苯基锍 1-金刚烷基甲氧羰基二氟甲磺酸三苯基锍 (金刚烷-1-基甲基)氧羰基二氟甲磺酸三苯基锍 (金刚烷-1-基甲基)氧羰基二氟甲磺酸 |
| 分子式 | C31H32F2O5S2 |
| 分子量 | 586.7 |
| INCHI | InChI=1S/C18H15S.C13H18F2O5S/c1-4-10-16(11-5-1)19(17-12-6-2-7-13-17)18-14-8-3-9-15-18;14-13(15,21(17,18)19)11(16)20-7-12-4-8-1-9(5-12)3-10(2-8)6-12/h1-15H;8-10H,1-7H2,(H,17,18,19)/q+1;/p-1 |
| InChI键 | OPUSNKQMMLRYMS-UHFFFAOYSA-M |
| 典范 SMILES | C1C2CC3CC1CC(C2)(C3)COC(=O)C(F)(F)S(=O)(=O)[O-].C1=CC=C(C=C1)[S+](C2=CC=CC=C2)C3=CC=CC=C3 |
| 专利信息 | ||
| 专利ID | 标题 | 发布日期 |
| US2016 / 168115 | 盐、酸发生剂、抗蚀剂组合物及抗蚀图案的制备方法 | 2016 |
| JP2018 / 145179 | 盐、酸发生剂、抗蚀剂组合物及抗蚀图案的制备方法 | 2018 |
物理数据
| 外观 | 白色至类白色粉末 |
| 可溶性 | 数据不详 |
| 闪点 | 数据不详 |
| 折射率 | 数据不详 |
| 灵敏度 | 数据不详 |
光谱
| 核(核磁共振光谱学) | 溶剂(核磁共振波谱法) | 原始文本(核磁共振光谱学) |
| 1H | 氯仿 - d1 | 1<sup>1</sup>H NMR(测量溶剂:氘代氯仿,参考物质:四甲基硅烷);δ=7.72 (m, 15H; TPS), 3.85 (s, 2H; CH<sub>3</sub>)2), 1.92 (m, 3H; 1-Ad), 1.62 (m, 12H; 1-Ad)。 |
| 1H | 氯仿 - d1 | 19<sup>19</sup>F NMR(测量溶剂:氘代氯仿,参考物质:三氯氟甲烷);δ=-110.0 (s, 2F; CF<sub>3</sub>)2). |
| 描述(质谱) | 评论(质谱) | 高峰 |
| ESI(电喷雾电离),LCMS(液相色谱质谱) | 分子峰 | |
| ESI(电喷雾电离) | 分子峰 | 263.2 m / z |
| LCMS(液相色谱质谱),ESI(电喷雾电离) | ||
| LCMS(液相色谱质谱),ESI(电喷雾电离) |
| 描述(UV / VIS光谱) |
| 光谱 |
合成路线(ROS)
| 医美问题 | 产量 |
| 在80℃的水中; | 100% |
| 在甲醇中;在水中浸泡 15 小时; |
安全与危害
| GHS危害声明 | 没有分类 |
其他数据
| 交通 | NONH适用于所有运输方式 |
| 在室温和远离光线下 | |
| HS编码 | 数据不详 |
| 存放 | 在室温和远离光线下 |
| 保质期 | 2 年 |
| 市场价格 | 美元 |
| 药物相似性 | |
| Lipinski规则组件 | |
| 分子量 | 586.721 |
| 日志 | 8.553 |
| HBA | 5 |
| HBD | 0 |
| 匹配Lipinski规则 | 2 |
| Veber规则组件 | |
| 极性表面积(PSA) | 91.88 |
| 可旋转债券(RotB) | 8 |
| 匹配Veber规则 | 2 |
| 使用模式 |
| 核心功能:光酸发生器(PAG) |
| 它吸收光并发生光解作用 |
| 产生强酸(二氟甲磺酸) 生成的酸可以催化化学放大反应或引发后续的阳离子聚合反应。它是光刻胶和阳离子光聚合物固化体系中的关键功能添加剂。 二、主要应用领域 1.半导体光刻胶(化学放大光刻胶,CARs) 适用于: i线、KrF和ArF光刻系统 高分辨率化学放大光刻胶 主要功能: 暴露于酸中会产生酸 催化脱保护反应 增强曝光效果 → 提高分辨率、灵敏度和关键尺寸/线边缘粗糙度 (CD/LER) 控制 金刚烷基结构的优点: 提供高热稳定性 减少酸扩散 → 提高分辨率和线边缘粗糙度 提高光刻胶的光学性能和配方稳定性 阳离子光固化系统 用于环氧树脂和乙烯醚材料的紫外光诱导阳离子固化 紫外线照射→生成酸→引发阳离子开环聚合或交联 应用范围包括: 紫外线固化涂料和油墨 电子封装材料 光刻图案化绝缘层(例如,PSPI、PI) |
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![1-(三环[3.3.1.13,7]癸-1-基甲基)2,2-二氟-2-磺基乙酸酯三苯基锍盐的结构 (11) CAS 1022939-88-3](https://www.chemwhat.com/wp-content/uploads/2026/02/Structure-of-Triphenylsulfonium-salt-with-1-tricyclo3.3.1.137dec-1-ylmethyl-22-difluoro-2-sulfoacetate-11-CAS-1022939-88-3.png)
![1-(三环[3.3.1.13,7]癸-1-基甲基)2,2-二氟-2-磺基乙酸酯(11) CAS# 1022939-88-3 的三苯基锍盐的合成路线](https://www.chemwhat.com/wp-content/uploads/2026/02/Route-of-Synthesis-ROS-of-Triphenylsulfonium-salt-with-1-tricyclo3.3.1.137dec-1-ylmethyl-22-difluoro-2-sulfoacetate-11-CAS-1022939-88-3.png)